常州启程环境技术有限公司近日发布QC-GF系列特种吸附剂，针对半导体制造中的蚀刻、清洗工艺废气进行定向优化。该系列包含QC-GF-1、QC-GF-2等型号，可吸附Cl2、BCl3、HF等20余种气体，单次吸附容量达35L/L，较传统材料提升40%。以QC-GF-C型号为例，其通过复合活性成分设计，可同时处理NF3、F2等强腐蚀性气体，且支持再生循环使用，大幅降低客户耗材成本。
目前，该吸附剂已应用于公司Dry Scrubber及Hybrid Scrubber设备，并在国内某头部面板厂商完成验证测试，废气去除率稳定在99%以上。公司研发团队表示，未来将进一步开发适配光伏工艺的低温催化材料，助力新能源行业环保升级。
